Официальное опубликование
This is a new method of nanostructure fabrication using the atomic layer etching process, which is inherently a damage-free etch process. The recently discovered etching process selectivity to inclined surfaces, allows to use walls of tapered structures as a mask. The inclined surfaces can be readily fabricated by e. This process therefore provides access to fabrication of extremely small structures in a very precise and efficient way. Applications This invention achieves nanostructure fabrication beyond the resolution limit for optical and electron beam lithography, with applications in e. Among other uses, this invention may enable an economically affordable way of transistor channel scaling for sub nm technology nodes.
Бывает, работники приобретают что-то для нужд компании за собственные деньги например, какие-то расходные материалы для бытовых нужд , а после работодатель компенсирует им эти траты. Для возмещения денег работнику необходимо написать служебную записку в произвольной форме на имя руководителя организации с указанием:. Авансовый отчет составлять не нужно, ведь подотчетные суммы не выдавались.
